白光干涉仪是用以对各种各样高精密元器件表层开展纳米精确测量的仪器设备，它是以白光干涉技术性为基本原理，灯源传出的光历经扩束镜自准直后经分光仪棱镜后分为两束，一束经被测表层反射面回家，此外一束光经参照镜反射面，两束折射光聚集并产生干预，光学显微镜将被测表层的外貌特点转换为干涉条纹数据信号，根据精确测量干涉条纹的转变来精确测量表层三维外貌。白光干涉仪专用型于非接触式迅速精确测量，高精密零部件之关键部位的粗糙度、细微外貌轮廊及规格，其测量精度能够 做到纳米！现阶段，在三d精确测量行业，白光干涉仪是精密度的检测仪器之一。

白光干涉仪较为合适检验的试品按行业分成消费电子·九游会·产品类、半导体封装、超精密机械加工（机械设备、电子光学）、微结构原材料这四个大的行业；

在其中消费电子·九游会·产品类即智能化电子设备的夹层玻璃机壳、嵌入拼装规定较为高的超光洁片状（如home键里的片状、手机镜头里边的片状）；

半导体芯片的全部全产业链上的生产流程以下：硅棒历经一系列钻削、打磨抛光物理学方式 后得到较为不光滑的硅单晶，硅单晶历经单双面打磨抛光后即变成可开展蚀刻（将IC芯片蚀刻工艺到打磨抛光面）的硅单晶，所述2个流程得到的是半导体材料行业里原料硅单晶，归属于成品检验一部分，成品检验一部分对打磨抛光后的硅单晶打磨抛光面表面粗糙度有规定，一般规定在1nm及下列，但因为制做这类硅单晶归属于制造行业上下游原料公司，在打磨抛光后硅单晶粗糙度不一定会做强制性的检验规定，现阶段掌握到该种类公司检验较为少。